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イベントカレンダー

講演会・シンポジウム

第36回コロイド・界面技術シンポジウム ―ブレークスルーを生み出す次世代コロイド界面技術―

開催概要

主 催 日本化学会
会 期 1月24日 (木),25日 (金)
会 場 化学会館7Fホール (千代田区神田駿河台1-5)〔交通〕JR中央線・総武線「御茶ノ水」駅徒歩3分

第1日 1月24日 (木) コロイドラーニング・アドバンス〈新たな応用へ導く先端技術の結晶〉
1.ゲルの新たな世界~基礎から設計戦略,最新応用まで (関西大)宮田隆志
2.乳化・可溶化・洗浄剤処方設計における相平衡図の読み方・使い方 (資生堂)渡辺 啓
3.微粒子・ナノ粒子の"サイズと形"を如何に制御するか?~基礎から先端材料まで (東北大) 蟹江澄志
4.ナノ多孔性シロキサン系ハイブリッド材料―透明,柔軟,低密度,超断熱 (名大)中西和樹
5.ミクロとマクロからの液/液界面膜の描像 (九大)瀧上隆智
6.ソフト界面・ナノ界面におけるトライボロジーの特徴 (花王)山田真爾

第2日 1月25日 (金) テーマセッション〈ブレークスルーを生み出す次世代コロイド界面技術〉
1.超分子オルガノゲルを利用した薬物の皮膚浸透技術 (日大)橋崎 要
2.薬物送達システムの基礎と応用研究~疾患の原因をつくらせない⁉ 生体バリアを突破する核酸送達ナノ粒子 (東薬大)高島由季
3.ピコリットル液滴で遊ぼう! (東大)酒井啓司
4.高分子ナノ構造のホントウの姿を覗いてみませんか? (東北大)陣内浩司
5.NanoSuitʀ―生物試料を生きたまま濡れたまま電子顕微鏡観察 (浜松医大)針山孝彦
6.生命誕生の謎解きから生まれた次世代ナノ乳化技術 (海洋研究開発機構)出口 茂
7.界面コロイド化学がもたらす美しい画像 (人工光合成化学プロセス技術研究組合)西見大成

募集内容

参加申込締切 定員(110名)になり次第
参加費 〔2日とも参加〕部会員25,000円,日化・協賛学会員30,000円,非会員35,000円,学生 (部会員)6,000円,学生 (非会員)10,000円,〔1日のみ参加〕部会員15,000円,日化・協賛学会員18,000円,非会員20,000円,学生 (部会員)4,000円,学生 (非会員)6,000円
参加申込方法 下記HPの所定フォーマットからお申し込み下さい

会期 2019年1月24日 (木),25日 (金)
行事名 第36回コロイド・界面技術シンポジウム ―ブレークスルーを生み出す次世代コロイド界面技術―
会場 化学会館7Fホール
連絡先 〒101-8307 千代田区神田駿河台1-5 日本化学会コロイドおよび界面化学部会事務局 
電話 (03)3292-6163 FAX (03)3292-6318 
E-mail: dcsc@chemistry.or.jp 
URL https://colloid.csj.jp/