日本化学会

開催概要

主　催　フォトポリマー懇話会
協　賛　日本化学会
会　期　8月26日 (木)9時30分～27日 (金)17時10分
実施方法　オンライン開催 (Zoom)

1日目〔基礎編〕8月26日 (木)
1．フォトポリマーの光化学　 (阪府大)岡村晴之
2．フォトポリマーの材料設計　 (信州大)上野　巧
3．光酸発生剤の基礎　 (サンアプロ)柴垣智幸
4．フォトポリマーの特性評価　 (リソテックジャパン)関口　淳
2日目〔応用編〕8月27日 (金)
1．微細加工用レジストと先端リソグラフィー技術　 (兵庫県大)渡邊健夫
2．コーティング分野におけるモノマーとフォトポリマーの役割と設計思想 　(荒川化学工業)冨樫春久
3．感光性耐熱材料の最近の進歩　 (東レ)富川真佐夫
4．光硬化型接着剤および光アニオン硬化の接着剤への活用　 (スリーボンド)大槻直也
5．トピックス　フォトレジストの分析技術　
～薄膜の化学構造解析を中心に　 (東レリサーチセ)萬　尚樹

募集内容

参加申込締切　8月12日 (木)
参加費　会員18,000円 (4名以上参加の場合は一律65,000円/会員企業)，日本化学会会員18,000円，非会員28,000円，学生8,000円
参加申込方法　当会HPのE-mailフォームからお申し込み下さい。