主 催 Cat-CVD研究会
協 賛 日本化学会
会 期 6月22日(木),23日(金)
開催方式 対面式
会 場 北九州国際会議場 (北九州市小倉北区浅野3-9-30) 〔アクセス〕
Cat-CVD (触媒化学気相堆積) 法は,加熱した触媒体上でのガス分子の分解を利用して薄膜を堆積する技術です。また,高密度のラジカルを生成できることから,基板や薄膜への表面処理や表面改質技術としても展開されています。本会合では,Cat-CVD技術の基礎的理解を深め,応用分野のなお一層の展開が図られるための議論や情報交換を行います。
発表申込締切 6月2日(金)
予稿原稿締切 6月2日(金)
参加登録予約申込締切 6月16日(金)
討論主題 Cat-CVD技術の基礎~応用
発表形式 口頭・ポスター
発表申込方法 Web
予稿原稿 下記研究会HPよりテンプレートをダウンロード
参加登録費 事前:一般5,000円,協賛学協会員3,000円,協賛広告企業社員3,000円,学生無料
参加登録予約申込方法 下記研究会HPより
会期 | 2023年6月22日(木),23日(金) |
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行事名 | 第20回Cat-CVD研究会 |
会場 | 北九州国際会議場 |
連絡先 | 九州工業大学 和泉 亮 |
URL | http://www.cat-cvd.jp/join.html |