日本化学会

開催概要

主　催　第9回ニトロキシドラジカル国際会議組織委員会
協　賛　日本化学会有機結晶部会・高分子学会
会　期　9月24日(日) ～28日(木)
開催方式　対面式
会　場　慶應義塾大学日吉キャンパス独立館 (横浜市港北区日吉4-1-1) 〔交通〕東急東横線，東急目黒線，東急新横浜線/横浜市営地下鉄グリーンライン「日吉」駅徒歩1分

募集内容

討論主題　ニトロキシドなど安定有機ラジカルの合成研究，ラジカルの機能物性評価，ラジカルを利用したESR計測，ラジカルの医薬・生体への応用，材料科学へのラジカルの応用 (電池，分子磁性etc)
発表形式　口頭発表 (一般講演，質疑応答を含め30分または15分) ，ポスター発表

ニトロキシドなど有機ラジカルの合成と物性評価，ラジカル検出するための新しい手法の開発，スピンラベリング・トラッピングを駆使した生体関連，電池材料・分子磁性など材料関連の研究が盛んに行われています。ニトロキシドラジカル国際会議 (英語名：SPIN) は，1979年にハンガリーで開催されて以降欧州圏で開かれてきました。今回の第9回ニトロキシドラジカル国際会議 (SPIN-2023) はアジア圏での初めての開催となります。日本での国際会議開催により分野横断的な討論，意見交換，研究者間の国際的な交流が促進されることが期待されます。一般講演を募集します。また，優れた学生発表を対象として講演賞，ポスター賞を授与します。

発表申込締切　口頭発表：7月28日(金) ，ポスター発表：8月11日(金)
予稿原稿締切　8月18日(金) 〔予定〕
参加登録予約申込締切　8月11日(金)
発表申込方法　Web
参加登録費　一般35,000円 (当日40,000円) ，学生15,000円 (当日20,000円)
懇親会　下記HPに掲載，適宜ご確認願います。会費12,000円 (予定)
参加登録予約申込方法　下記HPをご確認下さい。