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セミナー・講座

フォトポリマー懇話会 第33回講習会

開催概要

主 催 フォトポリマー懇話会
協 賛 日本化学会
会 期 8月24日(木) 9時20分~25日(金) 17時20分
開催方式 オンライン

8月24日(木)
1.光化学の基礎と分子デザイン (成蹊大) 稲垣昭子
2.光開始剤の基礎と反応 (BASFジャパン) 鮫島かおり
3.ポリマーの光化学と特性 (阪公大) 岡村晴之
4.フォトポリマーの特性評価 (リソテックジャパン) 関口 淳
5.フォトポリマーの材料設計 (信州大) 上野 巧
6.総括討議
8月25日(金)
7.コーティング分野におけるモノマーとフォトポリマーの役割と設計思想 (荒川化学工業) 川添 圭
8.光硬化型接着剤および光アニオン硬化の接着剤への活用 (スリーボンド) 大槻直也
9.感光性耐熱材料の最近の進歩 (東レ) 富川真佐夫
10.微細加工用レジストと先端リソグラフィー技術 (兵庫県大) 渡邊健夫
11.トピックス 光クリックケミストリー:2022年ノーベル化学賞「クリックケミストリー」の展開 (東理大) 有光晃二
12.総括討議

募集内容

参加申込締切 8月10日(木)
参加費 会員18,000円 (ただし4名以上参加の場合は一律65,000円/会員企業) ,日本化学会会員18,000円,非会員28,000円,学生8,000円
参加申込方法 Web

会期 2023年8月24日(木) ,25日(金)
行事名 フォトポリマー懇話会 第33回講習会
会場 オンライン開催
連絡先 フォトポリマー懇話会 
E-mail: poffice@tapj.jp 
URL https://www.tapj.jp