日本化学会

開催概要

主　催　近畿化学協会触媒・表面部会
協　賛　日本化学会近畿支部
会　期　11月9日(木) 9時30分～10日(金) 16時45分
開催方式　対面式
会　場　大阪工業大学大宮キャンパス (大阪市旭区大宮5丁目16-1) 〔交通〕地下鉄 (Osaka Metro) 谷町線「千林大宮」駅または谷町線・今里筋線「太子橋今市」駅から徒歩約12分，京阪本線「千林」駅から徒歩約20分，JR「大阪」駅前バス乗り場から大阪シティバス34系統「守口車庫前」行乗車「中宮 (大阪工大前) 」停留所下車すぐ

第1日目　11月9日(木)
開会挨拶 (近大理工) 古南　博
1．表面分析概論 (近大理工) 古南　博
2．組成分析 (AAS，ICP-AES，XRF) (阪公大院工) 亀川　孝
3．光電子分光法 (XPS，UPS) (阪公大院工) 堀内　悠
4．X線回折 (XRD) (阪公大ReCAP) 東　正信
5．電子スピン共鳴 (ESR) (阪公大院工) 松岡雅也
6．顕微鏡 (TEM・SEM・STM・AFM) (近大理工) 田中淳皓
7．昇温スペクトル (TPD，TPR) (阪大院工) 桑原泰隆
交流会
第2日目　11月10日(金)
8．X線吸収微細構造 (XAFS) (近大理工) 朝倉博行
9．紫外可視・光ルミネセンス (UV-vis，PL) (京大院人環) 山本　旭
10．核磁気共鳴 (NMR) (阪大院基礎工) 水垣共雄
11．赤外・ラマンスペクトル (FT-IR，Raman) (関大環境都市工) 福康二郎
12．質量分析 (MS) (京大院工) 井口翔之
13．総論・ケーススタディー (阪公大人工光合成研究セ) 吉田朋子
閉会挨拶 (近大理工) 古南　博

募集内容

参加申込締切　10月20日(金)
参加費　協賛団体会員33,000円，近畿化学協会触媒・表面部会法人会員28,000円，一般43,000円，学生11,000円
参加申込方法　Web