日本化学会

開催概要

主　催　高分子学会 高分子表面研究会
協　賛　日本化学会
会　期　1月26日(金) 9時55分～17時45分
開催方式　対面式
会　場　東京理科大学森戸記念館第1フォーラム (新宿区神楽坂4-2-2) 〔交通〕JR総武線，地下鉄有楽町線・東西線・南北線「飯田橋」駅下車徒歩10分，都営地下鉄大江戸線「牛込神楽坂」駅徒歩10分

開催の挨拶
1．マテリアルズ インフォマティクスにおける化学知や大規模言語モデルの活用検討 (東工大) 畠山　歓
2．AIシミュレータMATLANTISを用いた高分子界面のシミュレーション (ENEOS) 小島隆嗣
3．産学連携による高分子計算物性データベースの共創とマテリアルズインフォマティクスの実践 (情報システム研究機構) 吉田　亮
4．企業における界面系を対象とした分子動力学シミュレーションの活用事例 (富士フイルム) 井本　翔
5．高分子界面に関係するシミュレーションとデータ創成 (産総研) 森田裕史
6．大規模全原子分子動力学計算による高分子材料の諸特性とその分子機構の研究 (東京大学) 岡崎　進
質問コーナー
閉会の挨拶

募集内容

参加申込締切　1月24日(水) 12時
参加費　企業5,500円，大学・官公庁3,300円，学生2,200円
参加申込方法　Web