日本化学会

開催概要

主　催　高分子学会無機高分子研究会
協　賛　日本化学会
会　期　11月7日(木)，8日(金)
開催方式　対面式
会　場　東京理科大学森戸記念館第1会議室 (新宿区神楽坂4-2-2) 〔交通〕JR「飯田橋」駅西口，東京メトロ「飯田橋」駅B3出口から徒歩6分，都営大江戸線「牛込神楽坂」駅A3出口から徒歩3分

募集内容

討論主題　 (I) 無機高分子の合成 (1．ゾル-ゲル関連化学，2．ケイ素等のヘテロ元素含有高分子，3．遷移金属含有高分子，4．その他) ； (II) 無機高分子の構造と機能 (1．有機無機ハイブリッド，2．ポーラス材料，3．ナノ粒子/粉体，4．その他) ； (III) 無機高分子の応用 (1．構造材料，2．電子・光学材料，3．セラミックスおよびセラミックスプレカーサー，4．触媒，5．充填剤，6．その他)
発表形式　口頭発表 (発表10分・討論4分・交代1分，既発表内容を含んでもよい)

発表申込締切　7月5日(金)
予稿原稿締切　10月4日(金)
参加登録予約申込締切　10月25日(金)

発表申込方法　Web
予稿原稿　申込受付後，発表申込者にプログ ラム，原稿執筆方法などをご案内いたします。
参加登録費　高分子学会・日本化学会会員7,700円，学生3,300円
懇親会　開催を予定
参加登録予約申込方法　本討論会は全員登録制です。発表者および共同研究者で本討論会に出席される方は，8月以降必ず参加登録 (Web) をしていただき，参加費をご送金下さい 。