日本化学会

開催概要

主　催　フォトポリマー懇話会
協　賛　日本化学会
会　期　8月29日(木) 9時20分～30日(金) 17時20分
開催方式　オンライン

8月29日(木) 　
1．光化学の基礎と分子デザイン (成蹊大) 稲垣昭子
2．光開始剤によるラジカル生成とその反応素過程に対する高速ESR分光観測 (神奈川大) 河合明雄
3．ポリマーの光化学と特性 (阪公大) 岡村晴之
4．リソグラフィ技術の基礎とフォトレジストの材料設計 (阪大) 遠藤政孝
5．フォトポリマーの特性評価 (リソテックジャパン) 関口　淳
6．総括討議
8月30日(金)
7．光開始剤の基礎と反応 (BASFジャパン) 鮫島かおり
8．光酸発生剤と先端フォトポリマー材料への応用 (富士フイルム) 土村智孝
9．感光性耐熱材料の開発と事業化 (三井化学) 表　利彦
10．微細加工用レジスト (兵庫県大) 渡邊健夫
11．トピックス　光オンデマンド法の展開 (神戸大) 津田明彦
12．総括討議

募集内容

参加申込締切　8月15日(木)
参加費　会員18,000円 (4名以上参加の場合は一律65,000円/会員企業)，日本化学会会員18,000円，非会員28,000円，学生8,000円
参加申込方法　Web