主 催 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
協 賛 日本化学会
会 期 11月29日(金) 9時~17時15分
開催方式 対面式
会 場 グランパークカンファレンス401ホール (港区芝浦3-4-1 田町グランパークプラザ棟4F) 〔交通〕JR「田町」駅徒歩5分,地下鉄都営浅草線・三田線「三田」駅徒歩7分
1.半導体プラズマプロセスの基礎 (名大) 関根 誠
2.電気的・光学的プラズマ計測技術の基礎と応用 (京大) 占部継一郎
3.熱プラズマプロセスの基礎と応用 (九大) 渡邉隆行
4.先端エッチングプロセスにおける原子層レベル形状制御技術 (東京エレクトロン宮城) 西塚哲也
5.機械学習を活用したプラズマプロセスの解析と制御 (九大) 鎌滝晋礼
参加申込締切 11月13日(水)
参加費 協賛学協会個人会員:一般22,000円,学生6,000円 (税込・10%対象,テキスト代を含む)
懇親会 17時30分~19時。会費2,500円
参加申込方法 Web
会期 | 2024年11月29日(金) |
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行事名 | 第35回プラズマエレクトロニクス講習会 ―プラズマプロセスの基礎と先端応用技術― |
会場 | グランパークカンファレンス401ホール |
連絡先 | 申込先 応用物理学会事務局 問合先 〒185-8601 国分寺市東恋ヶ窪1-280 松井 都 (日立製作所) E-mail: miyako.matsui.sh@hitachi.com |
URL | https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=4210645660589436&EventCode=9910799533 |