主 催 日本化学会コロイドおよび界面化学部会
会 期 6月12日(木),13日(金)
開催方式 対面式
会 場 大阪産業創造館 (大阪市中央区本町1-4-5) 〔交通〕Osaka Metro中央線・堺筋線「堺筋本町」駅徒歩約5分
界面・コロイド化学は,洗剤・化粧品から,医薬品,最先端の電子材料まで,さまざまな工業製品において重要な役割を果たしています。本講演会は,特に若手社員や新たにこの分野の知識を必要とされる方々に,界面・コロイド化学を2日間で基礎から幅広く学んでいただくための集中講義です。講師に直接質問できる質問コーナーが毎回好評です!
6月12日(木)
1.コロイド・界面科学 ―表面張力と表面積が織りなす世界 (山形大) 野々村美宗
2.基礎からの界面活性剤 (奈良女子大) 吉村倫一
3.乳化の基礎 (九州大/技術コンサルタント) 岡本 亨
4.界面活性剤多成分溶液系における相図の見方と製剤への応用 (日光ケミカルズ) 鈴木敏幸
5.洗浄の基礎と応用 (花王) 坂井隆也
6月13日(金)
6.高分子の界面化学 (関西大) 宮田隆志
7.固体表面・細孔空間での現象 (岡山大) 大久保貴広
8.微粒子分散系の分散・凝集の基礎 (同志社大) 石田尚之
9.有機・無機ナノ粒子の製法と基礎物性 (北大) 米澤 徹
参加申込締切 定員になり次第
参加申込方法:下記HPよりお申し込み下さい。
参加費 コロイド部会員30,000円,日本化学会・協賛学会員35,000円,非会員40,000円,学生10,000円
参加申込方法 Web
会期 | 2025年6月12日(木),13日(金) |
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行事名 | 界面コロイドラーニング (大阪会場) ―第41回現代コロイド・界面化学基礎講座― |
会場 | 大阪産業創造館 |
連絡先 | 第41回現代コロイド・界面化学基礎講座 事務局 E-mail: jigyoukikaku_01@colloid.csj.jp |
URL | https://colloid.csj.jp/202502/learning-41st-osaka/ |