日本化学会

開催概要

主　催　日本化学会コロイドおよび界面化学部会
会　期　7月3日(木)，4日(金)
開催方式　対面式
会　場　同志社大学東京サテライト・キャンパス (中央区京橋2-7-19　京橋イーストビル3階) 〔交通〕JR「東京」駅八重洲南口徒歩6分・東京メトロ銀座線「京橋」駅徒歩1分

界面・コロイド化学は，洗剤・化粧品から，医薬品，最先端の電子材料まで，さまざま様々な工業製品において重要な役割を果たしています。本講演会は，特に若手社員や新たにこの分野の知識を必要とされる方々に，界面・コロイド化学を2日間で基礎から幅広く学んでいただくための集中講義です。講師に直接質問できる質問コーナーが毎回好評です！

7月3日(木)
1．コロイド・界面科学　―表面張力と表面積が織りなす世界 (山形大) 野々村美宗
2．基礎からの界面活性剤 (横国大) 荒牧賢治
3．乳化の基礎 (九大，技術コンサルタント) 岡本　亨
4．界面活性剤多成分溶液系における相図の見方と製剤への応用 (日光ケミカルズ) 鈴木敏幸
5．洗浄の基礎と応用 (花王) 坂井隆也
7月4日(金)
6．高分子の界面化学 (関西大) 宮田隆志
7．固体表面・細孔空間での現象 (信州大) 飯山　拓
8．有機・無機ナノ粒子の製法と基礎物性 (東北大) 蟹江澄志
9．微粒子分散系の分散・凝集の基礎 (筑波大) 小林幹佳

募集内容

参加申込締切　定員になり次第
参加費　コロイド部会員30,000円，日化・協賛学会員35,000円，非会員40,000円，学生10,000円
参加申込方法　Web　下記HPよりお申し込み下さい。