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講演会・シンポジウム第44回無機高分子シンポジウム ―次世代半導体や電子デバイスで活躍する最先端材料技術 ～計算科学やAI・MIの活用による開発スループット向上へ向けたアプローチ～―
開催概要
主 催 高分子学会無機高分子研究会
協 賛 日本化学会
会 期 7月18日(金) 10時～17時
開催方式 対面式
会 場 東京理科大学神楽坂キャンパス森戸記念館第1フォーラム (新宿区神楽坂1-3) 〔交通〕JR総武線，東京メトロ有楽町線・東西線・南北線，都営大江戸線「飯田橋」駅下車徒歩5分
開会挨拶 (京都工芸繊維大) 森末光彦運営委員長
1．化学研究・実験科学のための基盤モデルの活用検討と展望 (東大) 畠山 歓
2．レゾナックにおける計算科学と情報科学の活用事例紹介 (レゾナック) 奥野好成
3．ナノ材料の分散液の作製とそれらを用いたミスト成膜法による薄膜作製 (ニコン) 鈴木涼子
4．有機エレクトロニクス研究のデジタルトランスフォーメーション (山形大) 松井弘之
5．計算・データ科学に立脚した新規無機材料の設計・探索 (東京科学大) 大場史康
6．先端パッケージ技術と材料 (Rapidus) 野中敏央
募集内容
参加申込締切 7月14日(月)
参加費 企業 (高分子学会・日本化学会員) 14,300円，大学・官公庁 (高分子学会・日本化学会員) 5,500円，学生 (高分子学会・日本化学会員) 2,200円
参加申込方法 Web
| 会期 | 2025年7月18日(金) |
|---|---|
| 行事名 | 第44回無機高分子シンポジウム ―次世代半導体や電子デバイスで活躍する最先端材料技術 ～計算科学やAI・MIの活用による開発スループット向上へ向けたアプローチ～― |
| 会場 | 東京理科大学神楽坂キャンパス森戸記念館 |
| 連絡先 | 〒104-0042 中央区入船3-10-9 新富町ビル6階 公益社団法人高分子学会 電話 (03) 5540-3770 FAX (03) 5540-3737 E-mail: resg2@spsj.or.jp |
| URL | https://member.spsj.or.jp/event/index.php?id=696 |