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イベントカレンダー

講演会・シンポジウム

第43回コロイド界面技術シンポジウム ―自己組織化や分子集合体を活用した製剤設計・評価技術―

開催概要

主 催 日本化学会コロイドおよび界面化学部会
会 期 1月23日(金) 10時~17時20分
開催方式 オンライン・対面併催
会 場 同志社大学東京サテライト・キャンパス (中央区京橋2-7-19 京橋イーストビル3階) 〔交通〕「東京」駅八重洲南口から徒歩6分

コロイドおよび界面化学分野の主要な研究対象である界面活性剤やポリマー,粒子などには,ナノからマイクロスケールで自己組織化により秩序だった構造を形成するものが数多く存在します。これらは化粧品のみならず,医薬品製剤や機能性材料においても,製剤の安定性向上や有効成分の送達,さらには光学特性やテクスチャーといった性能に大きく寄与します。そのような構造体を巧みに操り,新たな製剤を創出・評価している最新技術についてご講演いただくことで,皆様の製剤開発への一助になればと考え,本テーマを企画いたしました。
1.界面活性剤分子集合体の多様性とおもしろさ (横国大) 荒牧賢治
2.NMRによるナノ分散系の内部構造解析と製剤物性評価 (千葉大) 植田圭祐
3.コロイド粒子の自己集合による構造形成とその光学特性 (名古屋市大) 山中淳平
4.経皮薬物送達のための界面制御技術 ―S/O技術と界面活性イオン液体 (九州大) 後藤雅宏
5.つけるだけでメイクが落とせる?! 動的濡れ性を制御したメイク自発洗浄技術の開発 (花王) 加賀谷真理子
6.制汗剤の機能特性解析~アルミニウム塩が形成するコロイドゲルの構造解析 (ライオン) 正岡幸子
7.講師との名刺交換・ディスカッション (対面のみ)

募集内容

参加申込締切 定員になり次第
参加費 部会員・講師紹介15,000円,日本化学会・協賛学会員18,000円,非会員25,000円,学生:部会員3,000円,非会員5,000円
参加申込方法 Web

会期 2026年1月23日(金)
行事名 第43回コロイド界面技術シンポジウム ―自己組織化や分子集合体を活用した製剤設計・評価技術―
会場 オンライン・同志社大学東京サテライトキャンパス
連絡先 日本化学会コロイドおよび界面化学部会 
E-mail: jigyoukikaku_01@colloid.csj.jp 
URL https://colloid.csj.jp/202510/43th_colloid_sympo/