日本化学会

開催概要

主　催　日本化学会コロイドおよび界面化学部会
会　期　5月28日(木)，29日(金)
開催方式　対面式
会　場　同志社大学東京サテライト・キャンパス (中央区京橋2-7-19　京橋イーストビル3階) 〔交通〕JR「東京」駅八重洲南口徒歩6分・東京メトロ銀座線「京橋」駅徒歩1分

界面・コロイド化学は，洗浄・化粧品・塗料など日常生活に密着した製品から，医療材料・医薬品，最先端の電子部品用材料まで，様々な工業製品開発において重要な役割を果たしています。本講座は，特に若手社員や新たにこの分野の知識を必要とされている方々を対象とし，界面・コロイド化学の幅広い内容を基礎からしっかり学んでいただける，毎年大好評の集中講義です。東京と大阪それぞれ別日程で開催します。

5月28日(木)
1．コロイド・界面科学　―表面張力と表面積が織りなす世界 (山形大) 野々村美宗
2．基礎からの界面活性剤 (花王) 加賀谷真理子
3．乳化の基礎 (コスメスクリプトコンサルティング) 岡本　亨
4．界面活性剤多成分溶液系における相図の見方と製剤への応用 (日光ケミカルズ) 鈴木敏幸
5．微粒子分散系の分散・凝集の基礎 (筑波大) 小林幹佳
5月29日(金)
6．洗浄の基礎と応用 (花王) 坂井隆也
7．固体表面・細孔空間での現象 (信州大) 飯山　拓
8．有機・無機ナノ粒子の製法と基礎物性 (東北大) 蟹江澄志
9．高分子の界面化学 (関西大) 宮田隆志

募集内容

参加申込締切　定員になり次第
参加費　部会員30,000円，日本化学会・協賛学会員35,000円，非会員40,000円，学生10,000円 (いずれも教科書込) 参加申込方法　Web